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X射线光电子能谱仪

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X射线光电子能谱仪

X射线光电子能谱仪

X射线光电子能谱仪是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。X射线光电子能谱仪基本原理是使用X-射线与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(B.E)。
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PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针

PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针

  • 品牌: 日本Ulvac-Phi
  • 型号: PHI5000 Versaprobe III
  • 产地:日本
  • 供应商:高德英特(北京)科技有限公司

    PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最*新产品,应用了PHI业界领先的专利扫描X-射线技术和专利双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 最*新技术:●  新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。●  新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。●  新的变角分析技术(ADXPS)收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。●  冷热样品台的温度范围得到提高,-140℃到+600℃。●  新的加热专用样品托可加热至800℃。●  新的四点电触式冷热样品台可对样品进行原位通电和加热冷却实验。●  新设计的紫外光电子能谱UPS可自动点火和输送气体。● 经过改善的俄歇SAM技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比,可同时进行REELS分析。     原位低能反光电子能谱 (LEIPS) 可在较低电子能量下(对材料无损伤)测试样品的导带信息。 PHI5000 Versaprobe III主要特征和功能: 1.  微聚焦的扫描X射线束可应对从微区到大面积的分析需求。2.  高可靠全自动分析能力,可实现无人值守式队列分析。3.  微区成像和图谱采集,可同时高效对多个微区进行对比分析。4.  溅射深度剖析,可分析膜层结构和成分深度变化。5.  多种技术联用的超高真空分析腔室,可扩展UPS、IPES、AES、C60、GCIB等多种技术。6.  智能用户操作界面(SmartSoft-VersaProbe)。7.  数据处理软件(MultiPak)。 微聚焦的扫描X射线源扫描聚集X-射线技术是Versaprobe III的核心技术,也是PHI公司的专利技术。单色、扫描、聚集X-射线源可以更好地分析微观及宏观区域,全部的X射线设定(包括束斑直径小于10μm的设定)都能用于采谱分析,深度剖析和影像分析。具体表现如下:1.  微聚焦的扫描X射线束。2.  X射线束用于二次电子成像。3.  XPS成分影像的每个像素点都可用于化学分析。4.  单点或多点采谱分析。5.  单点或多点薄膜分析。 微区分析极*佳的微区分析功能:1.   鼠标点击定义分析区域。2.   强大的Z轴自动校准功能。3.   一键双束中和功能。4.   在自动分析队列中,无须样品导电性。  高可靠性的自动分析功能:一键中和XPS可以分析所有固体材料表面的成分和化学态,包括导体、半导体和绝缘材料,但对绝缘体分析时需要进行电荷补偿。VersaProbeIII采用低能电子束和离子束双束源同时对样品表面进行电荷补偿,该技术只需一键开启,实现从导体到绝缘体的自动分析。定位功能更加容易实现:SmartSoft将实时的数据(如导航图、SXI、在线CCD)和测得的数据(如图谱、深度剖析和化学态分布像)在同一个界面上显示,只需在导航图上指定一个位置,样品台就会移动到该位置。另外,通过AutoZ和SXI,可更加精确的定位所要分析的位置。一键中和和自动高度聚焦(AutoZ)功能保证了自动分析的精确性,提高了分析效率,分析结果重复性很高。深度剖析的优势:优化结构设计; 微聚焦X射线束;灵敏度更高的分析器;高效的离子枪;独特的双束中和功能;带Zalar Rotation?功能的样品台;微区的深度剖析功能;多点的深度剖析功能。1、无机物深度剖析:离子枪的工作电压在0-5KeV范围内可调。配有低电压的浮动电位,可用于超薄薄膜的深度分析。独特设计的枪体弯曲结构可自动屏蔽中性的氩原子。2、有机物深度剖析:可选配10kV或者20kV的C60离子枪,也可选用20kV的GCIB(气体团簇离子枪)用于有机物的深度剖析。GCIB的特点是可以选择特定质量的团簇离子源,并且能过滤中性的粒子。PHI公司的VersaProbe III不但在微区XPS分析方面将灵敏度提高了3倍,而且通过变角分析模式和低能氩离子溅射使XPS的深度分辨率达到极限。如下图所示,在传统的分析中,其中光电子被收集的角度范围为+/-20°,使得它难以分析最外层表面。在新的变角分析模式下,+/- 5°窄角收集范围可允许探测最外层浅表面的成分信息。与此同时,最*新引进的Ar-GCIB可以将离子束能量降低到1keV用于深度剖析。团簇离子枪低能量溅射用于高分辨率的深度分析,如下图所示,样品为氧化剂,该谱图表明C和O均存在与C73H107O12和C33H46N3O5中,但是N仅存在于C73H107O12中,在谱图中,N元素的分布明显是不均匀的,这得益于团簇离子枪的高深度分辨率。 ●  SmartSoft-VersaProbe 软件操作软件:简单易学的流程操作界面,对任何操作者来说都易于使用,让操作效率更高。1.   直观的用户界面。2.   流程设计引导您完成整个分析过程。3.   集成样品托移动功能。4.   在保存的图像上定义分析区域。5.   直观的分析任务列表。6.   单图上实现多点分析和深度剖析功能。7.   集成所有选配件的操控。 ●  MultiPak 数据处理软件MultiPak 数据处理软件集成AES和XPS数据库:MultiPak软件拥有最全面的能谱数据库。采谱分析、线扫描分析、成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。它强大的功能包括峰的定位,化学态信息的提取,定量测试,检测限的增强等。MultiPak能在设备自带的电脑上直接实时的处理数据生成报告,也能安装在其他电脑上,处理数据生成报告。强大的数据处理功能:1.   自动谱峰识别。2.   XPS化学态数据库。3.   XPS谱图去卷积。4.   定量分析。5.   非线性最小二乘法拟合。6.   线性最小二乘法拟合。7.   目标因子分析法。8.   化学成像分析。9.   批量数据处理。 ●  VP-III 多功能的技术集成平台:根据研发的需要,以下是 VP-III 的可选择的配置。1.  扫描X射线源(标配);2.  进样室(可选配相机);3.  离子枪(标配);4.  能量分析器(标配);5.  CCD相机(标配);     6a. 标准五轴样品台(可选配带加热冷却功能的五轴样品台);     6b. 液氮罐(与6a选配配合使用)     7.  样品预处理室(选配);     8.  C60离子枪(选配);    9. 紫外光源UPS(选配);   10. 双阳极,非单色X射线源(选配)、LEIPS 低能反光电子能谱(选配);   11. AES电子枪(选配);   12. 20kV团簇离子枪(选配)。 ●  应用领域:包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)   1.固体材料或产品表面的元素成分和化学态的定性和定量表征,包括有机和无机材料,导体、半导体和绝缘体。   2. 解析薄膜中的组成元素和化学态以及分布情况,包括半导体、薄膜结构、磁介质薄膜、光学镀膜、装饰涂料和耐磨涂层     等。  3.  容易受到电子束破坏的样品成分分析。  4.能源环境、生物医药、聚合物(涂料、油脂、胶水、染料、橡胶、塑料等)、无机半导体和有机半导体如OLED, OPV等催   化材料、硅酸盐陶瓷、金属合金、氧化物等材料分析。?

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针

  • 品牌: 日本Ulvac-Phi
  • 型号: PHI Quantera II
  • 产地:日本
  • 供应商:高德英特(北京)科技有限公司

    ?PHI Quantera II扫描XPS微探针是建基于业界荣获最多殊荣的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研发的XPS分析仪器,其革命性的技术包括:独创微聚焦X-ray源,可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray;专利的双束电荷中和技术,即使到各位数微米区域,依然能够有效中和样品荷电;五轴精密样品台及全自动样品传递手臂,可同时进样数百个样品;全自动支持互联网远程控制。这些革命性的技术,使XPS的应用范围从数百微米扩展至个位数微米,同时能够高效快速的处理各种样品,包括导体、绝缘体、磁性样品等。?1. 扫描式聚焦X-ray设计,使7.5μm至1.4mm的分析区域内都可维持高性能的快速分析。PHI Quantera II使用了PHI独创的扫描聚焦式X-ray源,配合升级版的单色聚焦石英晶体,对比上一代的最小X-ray束斑进一步减少20%至7.5μm。X-ray束斑从7.5μm至400μm范围内连续,配合扫描功能,使分析面积范围扩充至7.5μm~1400μm*1400μm。PHI Quantera II同时配备高收集效能的静电式半球能量分析器,拥有大收集角度的同时,创新性的采用椭圆式的罗兰圆设计,极大的提高了能量分辨率。在空间分辨率、灵敏度、能量分辨率等指标上,堪称世界最强性能XPS系统。配合扫描X-ray高速同步扫描,真正意义上实现了单点、多点、线、面分析的最强功能。2. 高灵敏度的分析能力PHI Quantera II采用聚焦X-ray系统,在能量分析器的收集透镜端摒弃传统的光阑设计进行选区,最大可能的提升了光电子的收集效率,使其远远高出同类产品在200μm以下空间尺度的灵敏度,在30μm以下分区区域时,灵敏度高出非聚集XPS达100倍以上。同时,勿需采用磁透镜,保证了磁性样品分析时的灵敏度及避免了由磁透镜所带来的荷电中和困难,即使是磁性样品,也可轻松应对。在灵敏度提高的同时,极大的提高了分析效率,缩短分析时间。3. 占绝对优势的微区分析能力传统的XPS在微区分析定位时,存在不能清晰观察样品的困难。PHI Quantera II通过X-ray激发样品产生二次电子影像(SXI),可由二次电子影像提供分析所用的全部细微特征。二次电子影像(SXI)与采谱过程采用相同的激发源、光电子经过相同的光学路径、使用同一探测器进行成像及获谱。避免了因为光学图像上选点与分析位置的偏差,保证了所见即所得的精确分析。微小区域的高灵敏度分析不只在于表面分析,PHI Quantera II在微区深度剖析时,在相距只有几十微米的不同结构区域,都可有效提供超高灵敏度的分析结果。???4. 自动双束中和设计,使导体及非导体双束中和采用低能电子束及低能离子束,在样品近表面形成类等离子体气氛,用来中和绝缘样品表面的荷电。这一专利的中和方式,使在分析不同类型样品时,无需重新设置中和参数,既能自动匹配提供稳健的电荷补偿功能。浮动柱状离子枪及冷阴极发射器可以在超低电压的条件下,提供最大的离子及电子密度流。5. 逐点扫描的快速化学成像能力通过扫描X-ray,可通过条件每点的扫描时间快速完成化学态成像。同时能够得到每个像素点的化学态信息。传统的XPS通常采用拍摄大量的化学态快照,通过数学计算得到微区谱信息。而PHI Quantera II真正意义上实现了在化学态成像图上获取数据谱信息,同时数据谱的空间分辨率、灵敏度及能量分辨率与仪器主指标一致。??????6. 精确而快速的深度剖析能力采用独特的聚焦X-ray设计,可使用较小的束斑得到优秀的界面信息。同时采用较小的溅射面积实现快速的深度剖析功能。

PHI X-tool 全自动扫描型微区XPS探针

PHI X-tool 全自动扫描型微区XPS探针

  • 品牌: 日本Ulvac-Phi
  • 型号: PHI X-tool
  • 产地:日本
  • 供应商:高德英特(北京)科技有限公司

    PHI X-tool是一款操作简单,同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统,可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比,不采用光阑进行选区,极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时,不需要增加磁透镜,即可得到卓越的灵敏度及优秀的信噪比,即使磁性样品,也可轻松应对。1. 卓越的操作性PHI X-tool软件支持直观的触摸屏操作,所有XPS测定过程都可在触摸屏上完成。用户可以自由选择手动操作模式和自动操作模式(自动定性、定量、分析及完成报告),操作者无论是否具有丰富的XPS操作经验,均能轻松应对。2. 自动参数设定、自动完成报告PHI X-tool具备自动对焦功能(Auto-Z),使分析位置处于X射线的焦平面上,得到最优的分析条件。其可实现中和参数的自动匹配,无论样品的导电性如何,均可轻松应对。l自动定性:实现谱峰自动识别l自动定量:自动选定谱峰定量范围l自动曲线拟合:可自动实现预定条件的曲线拟合l自动生成实验报告3. 多方式样品观察在XPS分析中,样品观察,特别是微区定位至关重要。PHI X-tool可通过以下三种方式进行样品观察:a. 进样室高空间分辨率图像;b. 实时CCD成像;c. 二次电子像(SXI)。利用这几种方法观察样品,不论样品大小,表面形貌如何均可轻松确定测试位置。4. 详细的条件设定和直观的操作结合材料和目的,可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表,可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的文件名和样品名称。5. 快速化学成像采用扫描X射线和高灵敏度检测器及非扫描模式,可实现快速成像分析。每个点都可以直接调取全部的谱数据。化学态成像的空间分辨率、灵敏度、能量分辨率与仪器主指标一致。6. 采用PHI独有的最先进硬件设计l 微聚焦扫描X-ray源;l 双束中和系统,低能离子束及低能电子束自动配合;l 浮动离子枪,离子加速电压条件范围可达0~5kV

JED-2300T 能谱仪

JED-2300T 能谱仪

  • 品牌: 日本电子
  • 型号: JED-2300T
  • 产地:日本
  • 供应商:捷欧路(北京)科贸有限公司

    JED-2300T AnalysisStation是以“图像观察和分析”为基本理念的TEM/EDS集成系统。在分析数据过程中,自动采集电镜主机的倍率、加速电压等参数,进行数据管理。

岛津X射线光电子能谱仪 AXIS Supra

岛津X射线光电子能谱仪 AXIS Supra

  • 品牌: 日本岛津-GL
  • 型号: AXIS Supra
  • 产地:英国
  • 供应商:岛津企业管理(中国)有限公司

      2014年5月,Kratos公司隆重推出最新型的高度智能化的超高性能XPS谱仪——Axis Supra,并在短短的两个月的时间内,成功地在全球范围内销售了10台Axis Supra型XPS谱仪。技术特点:    Axis Supra继续采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度,同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器,可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端,Axis Supra采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器,可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置,亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。    Axis Supra采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器,完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务,尤其是对于表面凸凹不平的样品(典型的是粉末样品和断口样品),可以获得完美的分析结果。    Axis Supra采用专利的球镜半球能量分析器,获得超高空间分辨的二维光电子图像,亦即元素的不同化学状态的二维分布。    Axis Supra使用专利的静电传输透镜内置的静电偏转装置,可以利用光电子图像在不移动样品的情况下,获得不同位置上的小束斑微区XPS谱。    Axis Supra标配单色化Al阳极,亦可选购单色化的Al/Ag双阳极,并且单色化阳极靶可以更换多个新鲜靶点,极大地延长了阳极靶的使用寿命。    Axis Supra标配进样室定位光学显微镜,可以在进样预抽真空时定位多样品的分析位置,然后转入分析室实施自动分析。

X射线光电子能谱仪 AXIS NOVA

X射线光电子能谱仪 AXIS NOVA

  • 品牌: 日本岛津-GL
  • 型号: AXIS NOVA
  • 产地:英国
  • 供应商:岛津企业管理(中国)有限公司

    标准主机包含单色化Al Kα X射线源,可实现大面积XPS分析、小面积XPS分析和ISS分析以及XPS快速平行成像等功能业界最大功率的600W单色化Al Kα X射线源,确保最高的分析灵敏度平均半径165mm的双层能量分析器,确保高能量分辨XPS分析和高空间分辨的XPS成像专利的浸入式磁透镜技术,大幅度提高分析灵敏度专利的快速平行X光电子实时成像,空间分辨率优于3μm,最高像素65,536(256×256),可进行微区元素和化学态空间分布分析专利的同轴超低能无阴影单电子源荷电中和器,完美解决绝缘体XPS分析专利的二维阵列延迟线检测器(Delay-Line Detector),同时记录光电子的强度和发射位置,可实现在数秒钟之内获得高能量分辨XPS谱全自动超大样品台,可实现100mm×100mm的大样品分析最佳能量分辨率优于 0.45eV(Ag 3d5/2)常规分析能量分辨和灵敏度高达0.55eV@1.1Mcps(Ag 3d5/2)绝缘体分析的分析能量分辨和灵敏度高达0.68eV@16kcps(PET的C 1s)选配单色化Al/Ag双阳极X射线源,实现高能XPS分析结合了数据采集和数据处理的Vision软件,可运行于Windows XP/Vista/7等多种平台下,实现各真空室真空度实时显示,操控真空阀门开关,实验条件设定和全自动无人值守分析等强大功能?

岛津X射线光电子能谱仪 AMICUS

岛津X射线光电子能谱仪 AMICUS

  • 品牌: 日本岛津-GL
  • 型号: AMICUS型
  • 产地:英国
  • 供应商:岛津企业管理(中国)有限公司

    ?标准主机包含Mg/Al Kα双阳极非单色化X射线源,可实现高灵敏度大面积XPS分析,可增加高温催化反应池等。●最大300W的大功率上照射X射线源,无阴影的XPS分析●专利的锥形块体式阳极靶,抗污染能力极强●最佳能量分辨率优于 0.8eV(Mo 3d5/2)●常规分析能量分辨和灵敏度高达1.15eV@700kcps(Ag 3d5/2)●结合了数据采集和数据处理的Vision软件,可运行于Windows XP/Vista/7等多种平台下,实现各真空室真空度实时显示,操控真空阀门开关,实验条件设定和全自动无人值守分析等强大功能

赛默飞  高性能成像X光电子能谱仪

赛默飞 高性能成像X光电子能谱仪

  • 品牌: 赛默飞世尔
  • 型号: ESCALAB250
  • 产地:美国
  • 供应商:赛默飞世尔科技元素分析(Elemental)

    主要特点:专利的快速平行X光电子实时成像,可进行微区元素和化学态空间分布分析X光电子成像保证空间分辨率优于3μm,最好达到1μm标准主机包含大面积XPS分析,、小面积XPS分析和ISS分析, XPS Imaging and XPS Mapping 等项功能多种其它表面分析功能选件,如 AES/SAM、UPS和灵活多样的样品制备装置可保证最佳能量分辨率优于 0.45eV,。足以进行精细化学结构和化学价态分析极好的谱分析灵敏度可进行快速数据采集和分析, 取谱只需几秒钟同轴中和电子枪使得绝缘样品分析简单方便和有效高性能深度剖析-可进行表面与界面、三维成分深度分布分析THERMO VG先进的专业表面分析软件AVANTAGE,WINDOWS NT操作平台。工业化标准,分析功能强大,操作使用直观方便,与其它商业应用软件兼容性好。

赛默飞  全新平行角分辨XPS微探针

赛默飞 全新平行角分辨XPS微探针

  • 品牌: 赛默飞世尔
  • 型号: THETA PROBE
  • 产地:美国
  • 供应商:赛默飞世尔科技元素分析(Elemental)

    主要特点:仪器特点兼顾研究型仪器的灵活性,又满足工业型仪器要求的自动分析、处理大尺寸样品的能力和操作简单方便等特点。可应用科学于研究和应用于工业领域的质量控制、失效分析和材料制造等方面。高灵敏度小面积XPS能谱分析高性能深度剖析-可进行表面与界面、三维成分深度分布分析采用VG专利的快速平行角分辨XPS技术, 无需倾斜样品台就可在样品上原位同时快速获得多个角度(最多96个角度)的角分辨XPS的信息, 利用该项新技术实现了对超薄薄膜( < 10 nm 厚)的厚度均匀性及元素和化学态的快速分析。对大尺寸半导体芯片和微电子器件等领域的研究非常方便和有效。先进的微聚焦单色化X-射线源,X-射线束斑可在15μm至400μm范围调节分析微区可小于15μm。标准主机包含小面积XPS分析(15μm至400μm范围), 深度剖析、XPS Mapping 等项功能。独特的样品定位系统,可直观准确地确定分析区,特别方便进行微区XPS分析新型高效中和枪,可自动中和电子或离子,使得绝缘样品分析简单方便先进的离子枪- 可快速刻蚀,具有良好的低能量性能。全自动五轴样品台,可计算机控制进行多点、多样品的自动样品分析仪器操作非常简单方便,易于使用,快速分析灵活的样品操纵能力-可一次送入多个样品,或大尺寸样品(70 x 70 x 25 mm, or 100 mm wafer)具备多种表面分析功能的能力, 系统可装配选件如双阳极X-射线源(用于大面积XPS分析)、场发射AUGER电子枪(AES/SAM)和 UV源(UPS),样品加热/冷却等制样装THERMO VG先进的专业表面分析软件AVANTAGE,WINDOWS NT操作平台。工业化标准,分析功能强大,操作使用直观方便,与其它商业应用软件兼容性好。

Theta Probe平行角分辨XPS微探针

Theta Probe平行角分辨XPS微探针

  • 品牌: 赛默飞世尔
  • 型号: Theta Probe
  • 产地:美国
  • 供应商:上海欧波同仪器有限公司

    Theta Probe平行角分辨XPS微探针品牌: 赛默飞世尔型号:Theta Probe制造商:美国赛默飞世尔经销商:欧波同有限公司免费咨询电话:800-8900-558Thermo Scientific Theta Probe是一款小光斑X射线光电子能谱仪,无需样品倾斜即可进行角分辨谱收集,具备非破坏性超薄膜表征功能。 新兴技术依赖于固体表面次表面区域的工程改性。这些技术包括生物医学设备,表面改性聚合物以及应用于先进半导体器件的材料。对于这种类型的材料,确切了解表面几个纳米尺度内的组成至关重要。Theta Probe是一款通过平行角分辨XPS(PARXPS)测试的独特XPS。Avantage数据系统内的先进软件处理所有ARXPS数据,并生成准确的分析结果。XPS是众多材料特性表征技术中行之有效的测试手段,目前已成为从生物材料到半导体材料等许多技术领域先进材料开发的重要工具。Theta Probe的角分辨特征使其成为表征材料表面数纳米组成的理想分析手段。这些包括自组装单层膜,表面改性聚合物以及半导体器件。 主要特征高性能X射线光电子能谱仪Theta专利技术提供了平行收集超过60°角范围角分辨X射线光电子能谱的独特能力,无需样品进行倾斜,允许仪器对超薄膜样品进行非破坏性表征。 X射线单色器用户可选光斑大小范围15μm至400μm 平行角分辨X射线光电子能谱(PARXPS)分析无需倾斜样品 具备安装大样品或多外样品 基于Windows的Avantage数据系统控制 CCD样品校准显微镜垂直于样品表面透镜、能量分析器和检测器 光电子通过电磁透镜大角度(60°)收集 如此大的接收角使灵敏度最大化,允许在PARXPS测试时大角度范围收集光电子 透镜轴线与一般样品成50°角,因此光电子在超过20°至80°角范围(相对于一般样品)内被收集 180°半球能量分析器输出面配置二维检测器 二维检测器提供了多通道检测手段,拥有多达112个能量通道和多达96个角通道 Theta Probe中的透镜功能独特,因为它可以在两种模式操作: 普通模式,在没有角分辨测试需求时收集光谱 角分辨模式X射线光源 所有Theta Probe仪器均配置微聚集单色器。 用户可以通过选择15μm至400μm范围内的光斑大小来定义分析区域面积。深度剖析 数字化控制的EX05离子枪是可用于提供优异的深度剖析测试,即便使用低能离子 样品多方位旋转可用于最终的深度剖析测试。样品安装所有Theta Probe仪器均配置电机驱动五轴样品台。 样品台可安装大样品移动范围X轴和Y轴70mm,Z轴(高度)25 mm。真空系统分析室使用5毫米厚钼合金材料制造,最大限度地提高磁屏蔽效率,而不是使用效率较低的内部或外部屏蔽。样品制备 如需要,仪器可以配置系列制备室之一。Thermo Scientific表面分析仪器和部件由Avantage数据系统控制:软件集成了测试分析的所有方面,包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成基于Windows的软件包,可以通过网络远程控制,轻易实现与第三方软件如微软Word软件兼容负责从样品分析到报告生成整个测试分析过程 。产品应用领域氧化石墨烯的物理化学变化测控、半导体晶片上的超薄薄膜结构分析、分层太阳能电池、触摸屏复合涂层的检测评估、等离子表面改性、钢铁表面钝化工艺评估、BN玻璃、MEA燃料电池、耐磨镀层石油催化剂成像、食品安全聚合物包装材料、MAGCIS深度剖析单一头发纤维。

赛默飞K-Alpha X射线光电子能谱仪

赛默飞K-Alpha X射线光电子能谱仪

  • 品牌: 赛默飞世尔
  • 型号: K-Alpha
  • 产地:美国
  • 供应商:上海欧波同仪器有限公司

    K-Alpha X射线光电子能谱仪品牌: 赛默飞世尔型号:K-Alpha制造商:美国赛默飞世尔经销商:欧波同有限公司免费咨询电话:800-8900-558Thermo Scientific K-Alpha,一体化结构的X射线光电子能谱仪(XPS)。性能先进、高性价比、操作简便、结构紧凑,是现代实验室和企业的首选仪器。采用全新的生产技术,在K-Alpha的设计中集合了所有这些优势。K-Alpha X射线光电子能谱仪 Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的单色化小光斑X射线光电子能谱(XPS)系统。 性能卓越,拥有成本降低,易用性提高和尺寸紧凑使得K-Alpha成为许多现有以及新研发的表面分析应用领域理想解决方案。K-Alpha是专为多用户环境推出的第一款XPS工具,从样品进入到报告生成完全实现自动化工作流程。 专为生产率而设计,从研究分析到日常测试 Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射线光电子能谱。获奖的最新版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高,提供更高计数率和更快分析时间,改善化学探测能力。分析选配件包括一个角分辨XPS倾斜模块和一个循环惰性气体手套箱,用于转移空气敏感样品。K-Alpha带来一系列激动人心的新软件特征,旨在进一步增强用户体验。K-Alpha是专为多用户环境而设计,先进的单色X射线光电子能谱性能与智能自动化及直观控制相结合,同时满足有经验XPS分析人员及新人对此项技术的需求。 强大的性能 可选区域光谱 深度剖析刻蚀 微聚集单色器 快照采集 高分辩率化学态光谱 绝缘样品分析 定量化学成像无与伦比的易用性 Avantage,完整XPS软件包具备: 控制Avantage软件控制所有硬件 界面点击样品实验导航 定义自动化样品传送 采集谱图、成像、剖析和线扫描 诠释元素和化学态识别 过程定量、峰拟合和实时剖析显示 光谱成像处理,PCA,相分析,TFA、 NLLSF、PSF删除,光学/XPS像叠加 报告自动化报告生成,简易输出至其它软件包 Avantage索引数据档案管理 审计跟踪记录 系统性能记录 校准要求全谱仪源除气和设置 全遥控操作 主要特征 分析器180°双聚集半球分析器-128通道检测器 X射线源铝Ka微聚集单色器-可获取的光斑大小(5微米步长30至400微米) 离子枪能量范围100至4000 eV 电荷中和又束流-超低能量电子束 样品安装四轴样品台-60 x60毫米样品区域-最大样品厚度20毫米 真空系统2个220 l/s涡轮分子泵用于进样室和分析室自动开机,3灯丝TSP 数据系统Avantage数据系统过程许可计算机 选配件倾斜角分辨XPS模块惰性气体手套箱用于空气敏感样品安装产品应用领域氧化石墨烯的物理化学变化测控、半导体晶片上的超薄薄膜结构分析、分层太阳能电池、触摸屏复合涂层的检测评估、等离子表面改性、钢铁表面钝化工艺评估、BN玻璃、MEA燃料电池、耐磨镀层石油催化剂成像、食品安全聚合物包装材料、MAGCIS深度剖析单一头发纤维。

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